Новосибирск. 21 января. ИНТЕРФАКС-СИБИРЬ - Ученые Института теплофизики им.С.С.Кутателадзе создали сверхинтенсивную систему охлаждения для электроники, сообщил заведующий лабораторией интенсификации процессов теплообмена института Олег Кабов журналистам в пятницу.
"Мы предложили новую систему охлаждения, суть которой заключается в том, что мы прокачиваем тонкую пленку жидкости в микроканале, и пленка эта движется за счет потока газа", - сказал Кабов.
В результате удается отвести тепловой поток, составляющий 1,3 кВт/кв. см, что является рекордом.
Сверхвысокая интенсивность теплообмена обеспечивается тем, что в слое жидкости образуется до 200 тыс. сухих пятен микроскопических размеров и с очень коротким временем "жизни".
"Происходит контакт жидкости, газа и твердого тела, в этой линии контакта происходит сверхинтенсивное испарение, на порядок выше, чем просто в тонком слое (жидкости - ИФ). Мы впервые, по-видимому, в мире смогли организовать такой процесс в нашей лаборатории", - сказал Кабов.
По его словам, разработкой заинтересовался концерн "Алмаз-Антей".
Также лаборатория разрабатывает систему охлаждения для оптических элементов строящегося в наукограде Кольцово синхротрона СКИФ, отметил заведующий.
"Первый элемент - это изготовленное из алмаза стекло толщиной примерно 300 микрон и диаметром около 70 мм. Самая нагреваемая точка - центральная. Если бы тепловой поток в ней был 10 киловатт на кв. см, как изначально хотели физики, температура была бы более 2 тыс. градусов, алмаз быстро разрушился и синхротрон вышел из строя. Этого нельзя было допустить", - сказал Кабов.
"Мы уже оптимизировали нашу конструкцию и смогли достичь максимальной температуры 950 градусов, но всё равно это много, лучше 600 или даже 500 градусов. Мы будем продолжать исследования в этом направлении, у нас есть примерно еще 2-3 года", - добавил он.
