Томск. 17 декабря. ИНТЕРФАКС-СИБИРЬ - Ученые Томского госуниверситета систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) в течение ближайших двух лет намерены создать технологию, которая позволит в 10 раз ускорить процесс нанесения диэлектрических пленок, сообщила пресс-служба вуза в пятницу.
Ученые намерены провести исследование возможности осаждения оксидных слоев при проведении электронно-лучевого испарения в кислородосодержащей атмосфере. Ранее в ТУСУРе создали плазменные источники, формирующие электронные пучки в условиях форвакуума. С их помощью специалисты рассчитывают кратно увеличить скорость нанесения тонких слоев, например, для изоляции или придания антикоррозийных свойств устройству.
"Наши плазменные электронные источники имеют определенные преимущества, поскольку они могут работать при более высоких значениях давления, а значит при более высоком содержании кислорода в вакуумной рабочей камере. Мы рассчитываем, что нам удастся показать, что даже при испарении диэлектрической мишени мы сможем получать слои, которые будут отличаться лучшими свойствами при сохранении высокой скорости осаждения", - цитирует пресс-служба вуза профессора кафедры физики ТУСУРа Виктора Бурдовицина.
Проект был поддержан грантом Российского научного фонда. Ученые получат на проведение исследований до 3 млн рублей. Представить технологию им будет необходимо до конца 2023 года.
ТУСУР создан в 1962 году как институт радиоэлектроники и электронной техники, статус университета получил в 1997 году; ведет подготовку бакалавров, специалистов и магистров по всем основным разделам электроники и радиотехники, программирования, информационной безопасности, электронной и вычислительной техники, автоматики и систем управления, информационных технологий.
